Project

In situ XRF en XAS studie van atomaire laag depositie op vlakke en poreuze substraten – depositie van bimetallische materialen.

Looptijd
01-01-2011 → 31-12-2014
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO)
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Condensed matter physics and nanophysics
Trefwoorden
bimetallische materialen Atomaire-laagdepoitie dunne-filmgroei XAS XRF
 
Projectomschrijving

Het onderzoek betreft de ontwikkeling van synchrotron-gebaseerde meettechnieken voor de in situ karakterisering van een atomair depositieproces van inorganische materialen in/op vaste stoffen. Als specifieke toepassing worden de depositie en vorming van bimetallische materialen bestudeerd.