Code
01SB1809
Looptijd
01-01-2009 → 31-10-2011
Financiering
Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: Bijzonder Onderzoeksfonds
Promotor
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Condensed matter physics and nanophysics
Trefwoorden
silicide
dunne film
atomaire laag depositie
diffusiebarrière
Projectomschrijving
Atomaire laag deposite (ALD) is een zelf-gelimiteerde filmgroeitechniek, waarbij de groeiende film alternerend wordt blootgesteld aan pulsen van precursor gassen. De belangrijkste voordelen van ALD betreffen de gelijkvormige groei en de uitstekende controle over laagdikte, stoechiometrie en uniformiteit. Tijdens dit project is het onze bedoeling om ALD processen te onderzoeken voor de groei van diffusiebarrières en contacteringsmaterialen voor toepassingen in de nano-elektronica.