Project

Electron Beam Lithography System

Code
19202314
Looptijd
01-05-2014 → 30-04-2020
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO)
Onderzoeksdisciplines
  • Engineering and technology
    • Other engineering and technology
Trefwoorden
electron beam lithography system
 
Projectomschrijving

Micro- en nanotechnologie worden almaar belangrijker bij toponderzoek, en zowel in domeinen als de fundamentele fysica, nanofotonica, nano-elektronica, micro- en nanomechanica als in de bio- en medische wetenschappen en bij geavanceerde beeldvorming. Elektronenbundellithografie, waarbij een gefocusseerde bundel van elektronen met nanometerresolutie schrijft in een fotogevoelige laag, is de meest courant gebruikte technologie voor de initiële definitie van deze patronen. Daarna kunnen andere technieken zoals metaaldepositie of plasma-etsen gebruikt worden om deze patronen duurzaam in het finale substraat over te brengen. Waar deze extra technieken gemakkelijk toegankelijk zijn voor Vlaamse onderzoekers, bv. in de UGent Clean Room, is er op dit moment geen vlotte toegang tot een hoogwaardig elektronbundellithografie systeem in Vlaanderen, wat de voortgang van het onderzoek in een brede waaier van domeinen alsmaar meer belemmert. Daarom beogen we het verwerven van zo'n elektronbundellithografie systeem en de integratie ervan met de bestaande complementaire micro- en nanotechnologie infrastructuur in de UGent Clean Room en zo een Vlaams excellentiecentrum verder uit te bouwen.