Infrastructuur

Dunnefilmafzettingssysteem met sputter- en e-beamopties (200mm wafers)

Type
Apparatuur
Acroniem
Lesker-PVD
Code
APP/00239
Datum van ingebruikname
01-07-2025 → …
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
vacuüm depositie PVD dunne film depositie multi-bron depositie
Merknaam/fabrikant
Kurt J. Lesker PRO Line PVD 200
Andere informatie
 
Omschrijving

The Kurt J. Lesker PRO Line PVD 200 is a modular, full featured thin film deposition system allowing 8" wafer transfer, 4 sputter cathodes and 6 e-beam pockets and eKLipse advanced control software.