Type
Apparatuur
Acroniem
ICPECVD
Code
APP/00236
Datum van ingebruikname
01-07-2023 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
ICPECVD
dunne film depositie
hoge-dichtheid plasma
Merknaam/fabrikant
Sentech SI 500 D
Andere informatie
Omschrijving
Geavanceerd ICPECVD-systeem met hoge dichtheid plasma, lage ionenergie en lage temperatuurdepositie (< 100 °C). Ideaal voor hoogwaardige diëlektrische en siliciumlagen met uitstekende uniformiteit en lage stress.