Infrastructuur

RIE-etsinstallatie

Type
Apparatuur
Acroniem
AV RIE
Code
APP/00227
Datum van ingebruikname
01-10-2009 → …
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
anisotropisch etsen RIE plasma etsen halfgeleider etsen
Merknaam/fabrikant
Advanced Vacuum Vision 320 RIE
Andere informatie
 
Omschrijving

RIE-systeem (Reactive Ion Etching) voor het etsen van materialen zoals SiO₂, Si₃N₄, silicium en polymeren.