De Vapor Phase Etcher wordt gebruikt voor het etsen van siliciumdioxide in microfabricage. Het etsproces maakt gebruik van HF-zuurdamp, waardoor het watergehalte van de wafer kan worden gecontroleerd zonder direct vloeistof contact. Hierdoor kunnen MEMS-structuren vrijgemaakt worden, met typische etssnelheden van 4-10 μm/uur.