Research Explorer

Uw browser ondersteunt geen JavaScript of JavaScript is niet ingeschakeld. Zonder JavaScript kan sommige functionaliteit van deze webapplicatie uitgeschakeld zijn of foutmeldingen veroorzaken. Raadpleeg om JavaScript in te schakelen de handleiding van uw browser of contacteer uw systeembeheerder.

Onderzoeker

Roeland Schelfhout

Prijzen & Erkenningen

13 Resultaten

2020

Sputter yield measurements to evaluate the target state during reactive magnetron sputtering

Roeland SchelfhoutKoen StrijckmansDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY

2019

Modeling reactive magnetron sputtering : opportunities and challenges

Diederik DeplaKoen StrijckmansDulmaa AltangerelFlorian CougnonRobin DedonckerRoeland SchelfhoutIsabella SchrammFilip MoensRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in THIN SOLID FILMS

2018

An X-ray photoelectron spectroscopy study of the target surface composition after reactive magnetron sputtering

Roeland SchelfhoutKoen StrijckmansDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY

Anomalous effects in the aluminum oxide sputtering yield

Roeland SchelfhoutKoen StrijckmansDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS

The (in)stability of process control mechanisms in reactive DC sputtering deposition

Koen StrijckmansRoeland SchelfhoutDiederik Depla

Tutorial: Hysteresis during the reactive magnetron sputtering process

Koen StrijckmansRoeland SchelfhoutDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

2017

On the cause of a double hysteresis during reactive magnetron sputtering

Koen StrijckmansRoeland SchelfhoutDiederik Depla

Reactive (HiPIMS) through the eyes of a 'simple' model

Koen StrijckmansRoeland SchelfhoutFilip MoensDiederik Depla

2016

Hysteresis behavior during facing target magnetron sputtering

Florian CougnonKoen StrijckmansRoeland SchelfhoutDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY

The existence of a double S-shaped process curve during reactive magnetron sputtering

Roeland SchelfhoutKoen StrijckmansDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED PHYSICS LETTERS

2015

Highlights in modeling the reactive magnetron sputtering process with RSD2013

Koen StrijckmansRoeland SchelfhoutFlorian CougnonDiederik Depla

On the target surface cleanness during magnetron sputtering

Roeland SchelfhoutKoen StrijckmansFrancis BoydensDiederik Depla

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED SURFACE SCIENCE

On the target surface cleanness during magnetron sputtering

Roeland SchelfhoutDiederik Depla