Research Explorer

Uw browser ondersteunt geen JavaScript of JavaScript is niet ingeschakeld. Zonder JavaScript kan sommige functionaliteit van deze webapplicatie uitgeschakeld zijn of foutmeldingen veroorzaken. Raadpleeg om JavaScript in te schakelen de handleiding van uw browser of contacteer uw systeembeheerder.

Onderzoeker

Olivier De Gryse

Prijzen & Erkenningen

17 Resultaten

2006

Determination of oxide precipitate phase and morphology in silicon and germanium using infra-red absorption spectroscopy

Olivier De GryseJan VanhellemontPaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

2005

Critical precipitate size revisited and implications for oxygen precipitation in silicon

Jan VanhellemontOlivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED PHYSICS LETTERS

Precipitation and extended defect formation in silicon

Jan VanhellemontOlivier De GrysePaul Clauws

2004

DLTS studies of high-temperature electron irradiated Cz n-Si

V NEIMASHM KRAS'KOA KRAITCHINSKIIV VOYTOVYCHV TISHCHENKOE SIMOENJM RAFIC CLAEYSJorg VersluysOlivier De Gryse et al.

A1 Artikel in een tijdschrift in PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH

Extended defects in silicon: an old and new story

Jan VanhellemontOlivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in GETTERING AND DEFECT ENGINEERING IN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY

2003

A model for the formation of lattice defects at silicon oxide precipitates in silicon

Jan VanhellemontOlivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in PHYSICA B-CONDENSED MATTER

A novel approach to analyse FTIR spectra of precipitates in boron-doped silicon

Olivier De GryseJan VanhellemontPaul ClauwsO LEBEDEVJ VAN LANDUYTE SIMOENC CLAEYS

A1 Artikel in een tijdschrift in PHYSICA B-CONDENSED MATTER

Characterisation of oxygen and oxygen-related defects in highly- and lowly-doped silicon

E SIMEONC CLAEYSR LOOOlivier De GrysePaul ClauwsR JOBAG ULYASHINW FAHRNER

A1 Artikel in een tijdschrift in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY

Deep levels in oxygenated n-type high-resistivity FZ silicon before and after a low-temperature hydrogenation step

E SIMOENC CLAEYSR JOBAG ULYASHINWR FAHRNERG TONELLIOlivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY

2002

Chemical and structural characterization of oxide precipitates in heavily boron doped silicon by infrared spectroscopy and transmission electron microscopy

Olivier De GrysePaul ClauwsJan VanhellemontO LEBEDEVJ VAN LANDUYTE SIMOENC CLAEYS

Hydrogen plasma-enhanced thermal donor formation in n-type oxygen-doped high-resistivity float-zone silicon.

E SIMOENC CLAEYSR JOBAG ULYASHINWR FAHRNEROlivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED PHYSICS LETTERS

On the nucleation of bulk stacking faults in CZ silicon

Jan VanhellemontOlivier De GrysePaul Clauws

Optical spectroscopy of oxygen precipitates in heavily doped p-type silicon.

E SIMOENR LOOC CLAEYSOlivier De GrysePaul ClauwsJ VAN LANDUYTO LEBEDEV

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER

The behaviour of oxygen in oxygenated n-type high resistivity Float-Zone silicon

E SIMOENC CLAEYSR JOBAG ULYASHINWR FAHRNERG TONELLIOlivier De GrysePaul Clauws

2001

Chemical and structural characterization of oxygen precipitates in silicon by infrared spectroscopy and TEM.

Olivier De GrysePaul ClauwsO LEBEDEVJ VAN LANDUYTJ VANHELLEMONTC CLAEYSE SIMOEN

A1 Artikel in een tijdschrift in PHYSICA B-CONDENSED MATTER

2000

Quantification of the low temperature infrared vibrational modes from interstitial oxygen in silicon.

Olivier De GrysePaul Clauws

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

1998

Accurate infrared absorption measurement of interstitial and precipitated oxygen in heavily doped silicon

Olivier De GrysePaul ClauwsL ROSSOUJ VAN LANDUYTJan VanhellemontWilly Mondelaers