Het onderzoekproject is gericht op het kwantificeren van de basisprocessen gerelateerd aan de groei van dunne lagen door middel van magnetron sputterdepositie. Hiervoor wordt experimenten met simulaties gecombineerd. Op experimenteel vlak steunt het onderzoek op diagnostische methoden om in-situ de laaggroei en de depositieomstandigheden in kaart te brengen. Daarnaast worden de eigenschappen van de dunne lagen via tal van analytische technieken gekarakteriseerd. De karakterisering van dunnelaagtextuur (X-stralendiffractie), microstructuur (elektronmicroscopie) en chemische samenstelling (soft X-ray emission spectroscopy, energiedispersieve X-stralenanalyse, en X-stralen foto-elektronen spectroscopie) zijn hierbij de speerpunten. Dit wordt gekoppeld aan simulaties van het transport van atomen door de gasfase en de targetprocessen tijdens reactief sputteren. In tegenstelling tot onderzoeksgroepen in het vakgebied, is het onderzoek niet echt gekoppeld aan specifieke applicaties.