Het primaire doel van dit onderzoek is het begrijpen van de elektrochemische nucleatie en groeiprocessen die noodzakelijk zijn voor succesvolle elektrodepositie van koper op diffusiebarrière lagen te verbeteren (TiN of TaN, bijvoorbeeld). Het mechanisme van kiemvorming en groei van koper uit verschillende bekledingsoplossingen wordt bestudeerd met behulp electrocemical technieken zoals cuclic voltammetrie; chronoamperometrie en roterende schijfelektrode technieken. Afgezette films worden gekenmerkt behulp van scanning elektronenmicroscopie (SEM), atomic force microscopie (AFM), en andere geschikte oppervlaktekarakterisering technieken. Met behulp van de resultaten van deze experimenten zullen we procedures te optimaliseren voor elektrodepositie van continue, hoge kwaliteit koper films op verschillende substraten.