Een cruciale rol in de miniaturisatie van fotonische componenten (bv. modulatoren) wordt gespeeld door de integratie van ferroelektrische dunne films op silicium (Si) gebaseerde platforms. Aangezien de huidige integratieprocessen traag, complex en duur zijn, is er behoefte aan een schaalbare methode zoals natte chemische oplossingsdepositie (CSD) die integratie van getextureerde dunne films met hoge doorvoer mogelijk maakt.