Het proefproject beoogt te bestuderen, te begrijpen en te controleren mechanismen die bepalen enerzijds de kiemvorming en groei van edelmetaal nanodeeltjes door atomic layer deposition (ALD) en anderzijds de thermisch sintergedrag van de nanodeeltjes van verschillende oxidesubstraten. Gezien katalytische toepassingen, zullen we ons richten op ALD chemie van Pt, Pd en Ru. Onze experimentele benadering maakt gebruik van röntgenstralen gebaseerde oppervlakgevoelige karakterisering en atomaire resolutie imaging technieken die in situ of zonder vacuüm onderbreking (vacuüm) kan worden toegepast. Binnen de omvang van dit voorstel een speciale vacuümkamer ALD en uitgloeien experimenten worden gebouwd en gekoppeld aan een nieuwe vacuum cluster inrichting omvattende een Thetaprobe x-ray foto-elektron spectroscoop (XPS) en een instelbare temperatuur scanning probe microscope (SPM) geïnstalleerd de UGent Department of Solid State Sciences. Bovendien, in situ scherende inval kleine hoek röntgen verstrooiing (GISAXS) zullen worden uitgevoerd op synchrotron faciliteiten. Deze combinatie van complementaire technieken is wereldwijd uniek en wordt gebruikt om een ​​fundamenteel begrip van de chemische oppervlakte reacties drijven edelmetaal ALD groei te bereiken en de belangrijkste effecten die de morfologische evolutie controle tijdens kiemvorming, groei en sinteren van de metalen nanodeeltjes.