Project

In situ x-stralen gebaseerde studie van de nucleatie en groei van metalen tijdens atomaire laag depositie.

Looptijd
01-10-2014 → 30-09-2018
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO), Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: Bijzonder Onderzoeksfonds
Mandaathouder
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Condensed matter physics and nanophysics
Trefwoorden
atomaire laag depositie oppervlaktechemie
 
Projectomschrijving

Er wordt gestreefd naar een fundamenteel begrip van de oppervlaktechemie en de mechanismen die de initiële nucleatie en de daaropvolgende evolutie van de morfologie van de film tijdens metaal-ALD controleren. Er worden 3 ALD processen voor Ru en Ag gekozen als prototype systemen. De experimentele aanpak gebruikt oppervlakte gevoelige x-stralen gebaseerde karakterisatie technieken, die in situ of zonder vacuüm-breuk toegepast kunnen worden.