doctoraat Murad Redzheb fundamenteel onderzoek naar het mechanische stabiliteit van ultra low-k PMO films en poriën afdichten van lage-k films door depositie van organische gebrugde silsequioxane barrières IMEC mesoporeuze organosiliciumdioxide films organische bruggen (zogenaamde PMO materialen) bevatten, zijn een van de meest veelbelovende ultra low-k materialen als gevolg van de voorspelde verbetering van de mechanische eigenschappen en chemische steken! llty. Deze materialen demonstreren de mogelijkheid van het schalen van de diëlektrische constante waarden lager dan 2,0 zonder crit! Caf degradatie van de mechanische stabiliteit als het gebeurt in PECVD materialen. Schaling van de diëlektrische constante vereist fundamenteel begrip correlatie van afzettingsomstandigheden de fllms eigenschappen.