Project

Een fundamentele studie van nucleatie en groei tijdens thermische en plasmaversterkte atomaire laag depositie van edelmetalen via in situ synchrotron-gebaseerde karakterisatietechnieken.

Looptijd
01-10-2013 → 01-03-2020
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO), Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: Bijzonder Onderzoeksfonds
Mandaathouder
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Condensed matter physics and nanophysics
    • Analytical chemistry
    • Macromolecular and materials chemistry
  • Engineering and technology
    • Ceramic and glass materials
    • Materials science and engineering
    • Semiconductor materials
    • Other materials engineering
Trefwoorden
nucleatie groeikinetiek X-stralen fluorescentie ALD GISAXS atomaire laag depositie
 
Projectomschrijving

Tijdens dit project in het de bedoeling om meer inzicht te verwerven in atomaire laag depositie (ALD) van edelmetalen. In situ x-stralen fluorescentie en verstrooiingstechnieken zullen gebruikt worden om de vorming van nanodeeltjes tijdens de initiële groeifase te bestuderen, alsook het sintergedrag van de nanodeeltjes bij verhoogde temperatuur en het effect van stabiliserende ultradunne ALD coatings.