Project

Atomaire laag depositie voor surface engineering van poeders

Looptijd
01-09-2009 → 31-08-2013
Financiering
Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: IWT/VLAIO
Onderzoeksdisciplines
  • Engineering and technology
    • Materials science and engineering
Trefwoorden
poeders ALD functionele coatings metalen fluïdisatie
 
Projectomschrijving

1. Het ontwikkelen van een thermische en plasmaversterkt ALD proces voor depositie van metalen op vlakke substraten.2. Het ontwikkelen van twee nieuwe technieken voor ALD op poeders gebaseerd op nieuwe fluïdisatietechnieken, zowel aan de UGent als bij Umicore.3. Het evalueren van beide technieken op standaardpoeders.4. Het uitwerken van specifieke test cases voor Umicore.