Project

Fundamentele studie van de groeikinetiek en gelijkvormigheid van thermische en plasma-geassisteerde atomaire laag depositie

Code

3F005608

Looptijd

01-10-2008 → 30-09-2012

Financiering

Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO), Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: Bijzonder Onderzoeksfonds

Promotor

Christophe Detavernier

Mandaathouder

Jolien Dendooven

Onderzoeksdisciplines

Natural sciences
- Condensed matter physics and nanophysics

Trefwoorden

atomaire laag depositie plasma-geassisteerde atomaire laag depositie kinetisch model groeikinetiek gelijkvormigheid

Projectomschrijving

Groeikinetiek van ALD en PE-ALD: deze studie behandelt fundamentele vragen rond de initiële nucleatie, de evolutie van de oppervlakruwheid en de kristalliniteit van de lagen tijdens de depositie. Gelijkvomrigheid van ALD en PE-ALD: dit onderzoek tracht de gelijkvormigheid te karakteriseren in functie van de substraat morfologie, temperatuur en pulssequentie. Een tweede doelstelling is het modelleren van de gelijkvormigheid.