Project

Fundamentele studie van de groeikinetiek en gelijkvormigheid van thermische en plasma-geassisteerde atomaire laag depositie

Looptijd
01-10-2008 → 30-09-2012
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO), Gewestelijke en gemeenschapsmiddelen: Bijzonder Onderzoeksfonds
Mandaathouder
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Condensed matter physics and nanophysics
Trefwoorden
atomaire laag depositie plasma-geassisteerde atomaire laag depositie kinetisch model groeikinetiek gelijkvormigheid
 
Projectomschrijving

Groeikinetiek van ALD en PE-ALD: deze studie behandelt fundamentele vragen rond de initiële nucleatie, de evolutie van de oppervlakruwheid en de kristalliniteit van de lagen tijdens de depositie. Gelijkvomrigheid van ALD en PE-ALD: dit onderzoek tracht de gelijkvormigheid te karakteriseren in functie van de substraat morfologie, temperatuur en pulssequentie. Een tweede doelstelling is het modelleren van de gelijkvormigheid.