Reactief magnetron sputteren is een veel gebruikte depositietechniek met een interessante, maar onbegrepen dynamica. De belangrijkste doelstelling van het project is om deze dynamica te modelleren om zo een meer uitgebreide versie van het Reactief Sputter Deposition (RSD) model te bekomen waarmee de meest gecompliceerde processen van dit proces beschreven kunnen worden.