Atomaire laag depositie (ALD) is een techniek die gebruikt wordt om met atomaire precisie dunne lagen aan te brengen op substraten en poeders. De techniek vindt toepassingen in de micro-elektronica, en voor het functionaliseren/stabiliseren van batterijelektrodes en (elektro)katalytische materialen. De onderzoeksgroep COCOON op UGent heeft expertise en infrastructuur uitgebouwd om de oppervlakreacties tijdens ALD ‘in situ’ te bestuderen, zonder blootstelling van het groeioppervlak aan de lucht. De doelstelling van dit project betreft het gebruik van o.a. x-stralen foto-elektronen spectroscopie om het groeimechanisme van ALD lagen te bestuderen.