Het project stelt een fundamentele studie voorop van de vorming en eigenschappen van silicides als contacteringsmaterialen voor halfgeleidende nanodraden. Het is de bedoeling om beter inzicht te verwerven in de vormingskinetiek van silicides d.m.v. in situ x-stralen diffractie en in-situ Rutherford-terugverstrooiing op planaire structuren. In tweede instantie zullen de fasevorming, textuur en elektrische eigenschappen van silicide nanocontacten onderzocht worden.