Project

Fundamentele studie van de vorming van silicide-nanocontacten door middel van in situ karakteriseringstechnieken

Looptijd
01-01-2008 → 30-12-2013
Financiering
Fonds voor Wetenschappelijk Onderzoek - Vlaanderen (FWO)
Onderzoeksdisciplines
  • Natural sciences
    • Condensed matter physics and nanophysics
Trefwoorden
nanodraden in-situ karakterisering siliciden
 
Projectomschrijving

Het project stelt een fundamentele studie voorop van de vorming en eigenschappen van silicides als contacteringsmaterialen voor halfgeleidende nanodraden. Het is de bedoeling om beter inzicht te verwerven in de vormingskinetiek van silicides d.m.v. in situ x-stralen diffractie en in-situ Rutherford-terugverstrooiing op planaire structuren. In tweede instantie zullen de fasevorming, textuur en elektrische eigenschappen van silicide nanocontacten onderzocht worden.