Type
Apparatuur
Acroniem
EVG101
Code
APP/00249
Datum van ingebruikname
01-11-2023 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
fotoresistcoating
spraycoating
fotolithografie
wafercoating
Merknaam/fabrikant
EVG 101 /200/S/
Andere informatie
Omschrijving
Het EVG101 resist-verwerkingssysteem is ontworpen voor R&D-processen en ondersteunt wafers tot 200 mm. Het systeem gebruikt spuitcoating en ontwikkeling om uniforme lagen fotoresist of polymeren aan te brengen op 3D-gestructureerde wafers. Dankzij de OmniSpray-technologie wordt materiaalverbruik geminimaliseerd en de laaguniformiteit geoptimaliseerd.