Type
Apparatuur
Acroniem
ALD
Code
APP/00323
Datum van ingebruikname
01-01-2019 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Engineering and technology
- Semiconductor devices, nanoelectronics and technology
Trefwoorden
barrièrelaagdepositie
dunnefilmafzetting
atomaire laagdepositie
Merknaam/fabrikant
Veeco Savannah S200
Andere informatie
Omschrijving
Thermisch ALD-systeem voor het afzetten van uniforme, porievrije dunne films (2–100 nm) van oxiden, nitriden, sulfiden en metalen. Gebruikt opeenvolgende precursorblootstelling met stikstofspoeling.