Type
Apparatuur
Acroniem
MA6-2
Code
APP/00248
Datum van ingebruikname
01-01-2016 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
UV belichting
masker uitlijneer
fotolithografie
Merknaam/fabrikant
Suss Microtech MA6
Andere informatie
Omschrijving
Optisch lithografiesysteem. Definitie van patronen in lichtgevoelige lagen met een resolutie tot 600nm. Optie voor diepe UV-lithografie (248nm). Voor substraten en wafers tot 150 mm.