Type
Apparatuur
Acroniem
EVG aligner
Code
APP/00319
Datum van ingebruikname
01-01-2015 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Engineering and technology
- Semiconductor devices, nanoelectronics and technology
Trefwoorden
fotolithografie
maskeruitlijner
UV-belichting
nanoimprint
Merknaam/fabrikant
EVG 620
Andere informatie
Omschrijving
Mask aligner voor patroonoverdracht op een lichtgevoelig materiaal via selectieve UV-belichting door een masker. Ondersteunt meerdere modi (proximity, soft/hard/vacuümcontact) en bodembelichting. Ook bruikbaar in nano-imprintmodus.