Type
Apparatuur
Acroniem
MA6/BA6-1
Code
APP/00247
Datum van ingebruikname
01-01-2005 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
achterkant uitlijning
masker uitlijner
UV belichting
fotolithografie
Merknaam/fabrikant
Suss Microtech MA6/BA6
Andere informatie
Omschrijving
Optisch lithografiesysteem. Definitie van patronen in lichtgevoelige lagen met een resolutie tot 800nm op substraten en wafers tot 150mm. Optie voor uitlijning aan de achterkant.