Type
Apparatuur
Acroniem
ICP3-Si
Code
APP/00229
Datum van ingebruikname
01-07-2021 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
diep silicium etsen
cryo etsen
DRIE
lage-temperatuur etsen
Merknaam/fabrikant
Oxford PlasmaPro 100 Cobra
Andere informatie
Omschrijving
Geavanceerd ICP-etsysteem met cryo-optie en ondersteuning voor Bosch DSiE-processen, geschikt voor diepe anisotrope etsing van silicium.