Type
Apparatuur
Acroniem
ICP2-III-V
Code
APP/00228
Datum van ingebruikname
01-01-2013 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
inductief gekoppeld plasma
diep etsen
microfabricage
ICP etsen
Merknaam/fabrikant
Oxford Plasmalab 100
Andere informatie
Omschrijving
ICP-RIE-systeem (Inductively Coupled Plasma) voor het nauwkeurig etsen van halfgeleiders, waaronder III-V-materialen.