Type
Apparatuur
Acroniem
RIE
Code
APP/00286
Datum van ingebruikname
01-01-2000 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Engineering and technology
- Semiconductor devices, nanoelectronics and technology
Trefwoorden
reactieve ionenetsing
anisotrope etsing
dunnefilmpatronering
plasma-etsing
microfabricatie
Merknaam/fabrikant
Plasma Therm Batchtop VII
Andere informatie
Omschrijving
Het Benchtop System VII is een reactieve ionenetsmachine (RIE) voor droog etsen van dunne lagen bij kamertemperatuur. Geschikt voor materialen zoals siliciumdioxide, siliciumnitride en siliciumoxynitride. Organische lagen zoals polyimiden kunnen ook worden opgeruwd, verdund of geëtst.