Type
Apparatuur
Acroniem
Ebeam
Code
APP/00267
Datum van ingebruikname
01-01-2016 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
hoge-resolutie lithografie
nanopatroneren
e-beam lithografie
elektronenbundel
Merknaam/fabrikant
Raith - Voyager
Andere informatie
Omschrijving
50kEV elektronenbundellithografie voor het definiëren van patronen met een resolutie tot 10 nm. Patroongenerator 20bits, 500μm schrijfveld. Voor substraten en wafers tot 200 mm. Traxx optie voor het continu schrijven van structuren.