Type
Equipment
Acronym
Ebeam
Code
APP/00267
Date of commissioning
01 January 2016 → …
Research disciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Keywords
nanopatterning
e-beam lithography
electron beam
high-resolution lithography
Brand Name/manufacturer
Raith - Voyager
Other information
Description
50kEV elektronenbundellithografie voor het definiëren van patronen met een resolutie tot 10 nm. Patroongenerator 20bits, 500μm schrijfveld. Voor substraten en wafers tot 200 mm. Traxx optie voor het continu schrijven van structuren.