Type
Apparatuur
Acroniem
MA8/BA8
Code
APP/00261
Datum van ingebruikname
01-11-2024 → …
Onderzoeksdisciplines
-
Natural sciences
- Photonics, optoelectronics and optical communications
Trefwoorden
masker uitlijning
UV blootstelling
fotolithografie
achterkant uitlijning
Merknaam/fabrikant
Suss Microtec MA8/BA8
Andere informatie
Omschrijving
Geavanceerd optisch lithografiesysteem met automatische uitlijning, belichtingsregeling en hoge resolutie, voor wafers tot 200mm.