Instellingen beheren
MENU
Over deze site
In English
Home
Onderzoekers
Projecten
Organisaties
Publicaties
Infrastructuur
Contact
Research Explorer
Uw browser ondersteunt geen JavaScript of JavaScript is niet ingeschakeld. Zonder JavaScript kan sommige functionaliteit van deze webapplicatie uitgeschakeld zijn of foutmeldingen veroorzaken. Raadpleeg om JavaScript in te schakelen de handleiding van uw browser of contacteer uw systeembeheerder.
Onderzoeker
Philippe Vereecken
Profiel
Projecten
Publicaties
Activiteiten
Prijzen & Erkenningen
8
Resultaten
2024
Atomic layer deposition for tuning the surface chemical composition of nickel iron phosphates for oxygen evolution reaction in alkaline electrolyzers
Ruben Blomme
Rahul Ramesh
Lowie Henderick
Matthias Minjauw
Philippe Vereecken
Mieke Adriaens
Christophe Detavernier
Jolien Dendooven
A1
Artikel in een tijdschrift
in
NANOTECHNOLOGY
2024
Catalyst on Top? Importance of the Final Layer of an ALD Deposited Catalyst. Ni-Fe Catalysts Deposited by ALD
Ruben Blomme
Rahul Ramesh
Lowie Henderick
Matthias Minjauw
Philippe Vereecken
Mieke Adriaens
Christophe Detavernier
Jolien Dendooven
U
Conferentie
2024
2022
Plasma-enhanced atomic layer deposition of nickel and cobalt phosphate for lithium ion batteries
Lowie Henderick
Ruben Blomme
Matthias Minjauw
Jonas Keukelier
Johan Meersschaut
Jolien Dendooven
Philippe Vereecken
Christophe Detavernier
A1
Artikel in een tijdschrift
in
DALTON TRANSACTIONS
2022
2020
Nitrogen doping of Al- and Ti-phosphate through plasma-enhanced ALD
Lowie Henderick
Hamid Hamed
Felix Mattelaer
Matthias Minjauw
Momo Safari
Philippe Vereecken
Christophe Detavernier
C3
Conferentie
2020
2017
A USB-controlled potentiostat/galvanostat for thin-film battery characterization
Thomas Dobbelaere
Philippe Vereecken
Christophe Detavernier
A2
Artikel in een tijdschrift
in
HARDWAREX
2017
1999
Electroreduction of Co2+ and Ni2+ at III-V semiconductors and properties of the semiconductor/metal interfaces formed
Katrien Strubbe
Philippe Vereecken
Walter Gomes
A1
Artikel in een tijdschrift
in
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
1999
1998
Elektrochemische reductie van koperionen aan galliumarsenide-éénkristallen en eigenschappen van de gevormde GaAs/Cu-fasegrenzen
Philippe Vereecken
Walter Gomes
Proefschrift
1998
1996
Electrochemical reduction vs, vapour deposition for n-GaAs/Cu Schottky-barrier formation : a comparative study
Philippe Vereecken
GM VANALME
Roland Vanmeirhaeghe
Felix Cardon
Walter Gomes
A1
Artikel in een tijdschrift
in
JOURNAL OF THE CHEMICAL SOCIETY-FARADAY TRANSACTIONS
1996