Research Explorer

Uw browser ondersteunt geen JavaScript of JavaScript is niet ingeschakeld. Zonder JavaScript kan sommige functionaliteit van deze webapplicatie uitgeschakeld zijn of foutmeldingen veroorzaken. Raadpleeg om JavaScript in te schakelen de handleiding van uw browser of contacteer uw systeembeheerder.

Onderzoeker

Karin Eufinger

Prijzen & Erkenningen

31 Resultaten

2009

TiO2 thin films for photocatalytic applications

Karin EufingerDirk PoelmanHilde PoelmanRoger De GryseGuy Marin

Hoofdstuk in een boek in Thin solid films : process and applications

2007

DC magnetron sputter deposited vanadia catalysts for oxidation processes

M OLEAI SACKVeerle BalcaenGuy MarinHilde PoelmanKarin EufingerDirk PoelmanRoger De GryseJS PAULBF SELS et al.

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED CATALYSIS A-GENERAL

Effect of deposition conditions and doping on the structure, optical properties and photocatalytic activity of d.c. magnetron sputtered TiO2 thin films

Karin EufingerDirk PoelmanRoger De Gryse

Effect of substrate sodium content on crystallization and photocatalytic activity of TiO2 films prepared by DC magnetron sputtering

Henryk TomaszewskiKarin EufingerHilde PoelmanDirk PoelmanRoger De GrysePhilippe SmetGuy Marin

A1 Artikel in een tijdschrift in INTERNATIONAL JOURNAL OF PHOTOENERGY

Influence of the d.c. magnetron sputter deposition process on the photocatalytic activity of amorphous TiO2 thin films

Karin EufingerDirk PoelmanHilde PoelmanRoger De GryseGuy Marin

A2 Artikel in een tijdschrift in VACUUM TECHNOLOGY AND COATING

Magnetron sputter deposition for catalyst synthesis

Hilde PoelmanKarin EufingerDiederik DeplaDirk PoelmanRoger De GryseBF SelsGuy Marin

A1 Artikel in een tijdschrift in APPLIED CATALYSIS A-GENERAL

New supported vanadia catalysts for oxidation reactions prepared by sputter deposition

Hilde PoelmanBF SELSM OLEAKarin EufingerJS PAULB MOENSI SACKVeerle BalcaenF BERTINCHAMPSEM GAIGNEAUX et al.

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF CATALYSIS

2006

Influence of the d.c. magnetron sputter deposition process on the photocatalytic activity of amorphous TiO2 thin films

Karin EufingerHilde PoelmanDirk PoelmanRoger De GryseGuy Marin

Magnetron sputter deposition for catalyst synthesis

Hilde PoelmanKarin EufingerDiederik DeplaDirk PoelmanRoger De GryseB SELSGuy Marin

Photocatalytic activity of d.c. magnetron sputter deposited XRD amorphous TiO2 thin films

Karin EufingerRoger De GryseDirk PoelmanHilde PoelmanGuy Marin

The d.c. magnetron sputtering behavior of TiO2-x targets with added Fe2O3 or Nd2O3

Karin EufingerH TomaszewskiDiederik DeplaHilde PoelmanDirk PoelmanRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in THIN SOLID FILMS

The effect of argon pressure on the structural and photocatalytic characteristics of TiO2 thin films deposited by d.c. magnetron sputtering

Karin EufingerEls JanssenHilde PoelmanDirk PoelmanRoger De GryseGuy Marin

A1 Artikel in een tijdschrift in THIN SOLID FILMS

2005

Monte Carlo Simulation of Anomalous Erosion in Large Area Sputter Magnetrons

G BUYLEDiederik DeplaKarin EufingerRoger De GryseW DE BOSSCHER

2004

Calculation of the effective gas interaction probabilities of the secondary electrons in a dc magnetron discharge

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS

Characterization of the Electron Movement in Varying Magnetic Fields and the Resulting Anomalous Erosion

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De GryseW DE BOSSCHER

DC magnetron sputtered TiO2 thin films for photocatalytic applications

Karin EufingerHilde PoelmanDirk PoelmanRoger De GryseGuy Marin

DC magnetron sputtered vanadia catalysts for oxidation processes

M OLEAIsabelle SackVeerle BalcaenGuy MarinHilde PoelmanKarin EufingerRoger De GryseJS PAULBF SELSPA JACOBS

Simplified model for the DC planar magnetron discharge

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersW DE BOSSCHERRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in VACUUM

TAP studies on the reoxidation of some partially reduced vanadia-based catalysts

Isabelle SackM OLEAHilde PoelmanKarin EufingerRoger De GryseGuy Marin

A1 Artikel in een tijdschrift in CATALYSIS TODAY

2003

Dissection of the Planar Magnetron Discharge

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De GryseW DE BOSSCHER

Instabilities in the reactive sputtering of electrical insulating compounds

A SegersDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De Gryse

A4 Artikel in een tijdschrift in BELVAC NEWS

Physical and chemical characterization of VOx/TiOx model catalysts prepared by sputter deposition on inert carriers

Hilde PoelmanKarin EufingerRoger De GryseIsabelle SackMaria LucaciuGuy Marin

Recapture of secondary electrons by the target in a DC planar magnetron discharge

Guy BuyleW DE BOSSCHERD DOPLAKarin EufingerJohan HaemersRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in VACUUM

Simplified model for calculating the pressure dependence of a direct current planar magnetron discharge

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De GryseW DE BOSSCHER

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

TAP studies on the reoxidation of some partially reduced vanadia-based catalysts

Isabelle SackMaria LucaciuHilde PoelmanKarin EufingerRoger De GryseGuy Marin

2002

Arc Discharges in the Reactive Sputtering of Electrical Insulating Compounds.

Anneke SegersDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De Gryse

Importance of recapture of secondary electrons in cylindrical and planar magnetron discharges.

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De GryseW DE BOSSCHER

A1 Artikel in een tijdschrift in CZECHOSLOVAK JOURNAL OF PHYSICS

Influence of recapture of secondary electrons on the magnetron sputtering deposition process.

Guy BuyleDiederik DeplaKarin EufingerJohan HaemersRoger De Gryse

Low pressure Behaviour of the sputter magnetron discharge

Guy BuyleDiederik DeplaW DE BOSSCHERKarin EufingerJohan HaemersRoger De Gryse

Target voltage behaviour during DC sputtering of silicon in an argon/nitrogen mixture.

Diederik DeplaA COLPAERTKarin EufingerAnneke SegersJohan HaemersRoger De Gryse

A1 Artikel in een tijdschrift in VACUUM

2000

Poisoning in reactive sputtering as seen from the target voltage behaviour

Roger De GryseDiederik DeplaKarin Eufinger