Research Explorer

Uw browser ondersteunt geen JavaScript of JavaScript is niet ingeschakeld. Zonder JavaScript kan sommige functionaliteit van deze webapplicatie uitgeschakeld zijn of foutmeldingen veroorzaken. Raadpleeg om JavaScript in te schakelen de handleiding van uw browser of contacteer uw systeembeheerder.

Onderzoeker

Jakob Kuhs

Publicaties & datasets

Prijzen & Erkenningen

20 Resultaten

2024

Atomic layer deposition for stable InP-based on-chip quantum dot microLEDs : hybrid quantum dot pockets

Robin PetitResul OzdemirHannes Van AvermaetLuca GiordanoJakob KuhsAndreas WerbrouckMatthias FilezJolien DendoovenZeger HensPhilippe Smet et al.

A1 Artikel in een tijdschrift in ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES

Atomic layer deposition for stable on-chip quantum dot LEDs : hybrid quantum dot pockets

Robin PetitResul OzdemirHannes Van AvermaetLuca GiordanoJakob KuhsAndreas WerbrouckMatthias FilezJolien DendoovenZeger HensPhilippe Smet et al.

2020

ALD encapsulation of QD-polymer composite films for luminescent applications

Natalia Klaudia ZawackaRobin PetitJakob KuhsPhilippe SmetChristophe DetavernierZeger Hens

Atomic layer deposition of metal sulphides for the embedding of colloidal quantum dots

Jakob KuhsChristophe DetavernierZeger Hens

In situ characterization of quantum dot photoluminescence during atomic layer deposition: towards stable Cd-free QD-based devices

Robin PetitNatalia Klaudia ZawackaJakob KuhsPhilippe SmetZeger HensChristophe Detavernier

2019

Developing of photo-thermally stable QD-polymer composite films for luminescent applications

Natalia Klaudia ZawackaJakob KuhsIgor NakonechnyiPhilippe SmetZeger Hens

Impact of atomic layer deposition on the photoluminescence of colloidal quantum dots

Jakob KuhsAndreas WerbrouckNatalia Klaudia ZawackaEmile DrijversPhilippe SmetZeger HensChristophe Detavernier

In situ photoluminescence of colloidal quantum dots during gas exposure : the role of water and reactive atomic layer deposition precursors

Jakob KuhsAndreas WerbrouckNatalia Klaudia ZawackaEmile DrijversPhilippe SmetZeger HensChristophe Detavernier

A1 Artikel in een tijdschrift in ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES

Ligand binding to copper nanocrystals : amines and carboxylic acids and the role of surface oxides

Arnau Oliva PuigdomènechJonathan De RooJakob KuhsChristophe DetavernierJosé MartinsZeger Hens

A1 Artikel in een tijdschrift in CHEMISTRY OF MATERIALS

Micro-Transfer-Printing of Al2O3-Capped Short-Wave-Infrared PbS Quantum Dot Photoconductors

Nayyera MahmoudWillem WalravensJakob KuhsChristophe DetavernierZeger HensGünther Roelkens

A1 Artikel in een tijdschrift in ACS APPLIED NANO MATERIALS

Plasma enhanced atomic layer deposition of gallium sulfide thin films

Jakob KuhsZeger HensChristophe Detavernier

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

2018

Developing of photo-thermally stable QD-polymer composite films for luminescent applications

Natalia Klaudia ZawackaJakob KuhsChristophe DetavernierPhilippe SmetZeger Hens

Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum sulfide thin films

Jakob KuhsZeger HensChristophe Detavernier

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

2017

Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminium sulphide

Jakob KuhsZeger HensChristophe Detavernier

Plasma enhanced atomic layer deposition of aluminium sulphide

Jakob KuhsZeger HensChristophe Detavernier

Plasma enhanced atomic layer deposition of zinc sulfide thin films

Jakob KuhsThomas DobbelaereZeger HensChristophe Detavernier

A1 Artikel in een tijdschrift in JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

2016

Plasma enhanced atomic layer deposition of zinc sulfide

Jakob KuhsZeger HensChristophe Detavernier

Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures

Matthias MinjauwJolien DendoovenBoris CaponChristian DussaratEduardo Solano MinuesaKilian Devloo-CasierJakob KuhsMarc SchaekersAlessandro CoatiChristophe Detavernier

Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures

Matthias MinjauwJolien DendoovenChristian DussaratEduardo Solano MinuesaKilian Devloo-CasierJakob KuhsMarc SchaekersAlessandro CoatiChristophe Detavernier

Thin, low roughness Ru films deposited by thermal and plasma enhanced atomic layer deposition using RuO4 and H2 at low temperatures

Matthias MinjauwJolien DendoovenBoris CaponChristian DussaratEduardo Solano MinuesaKilian Devloo-CasierJakob KuhsMarc SchaekersAlessandro CoatiChristophe Detavernier