De aangevraagde lage temperatuurs-ALD (Atomic Layer Deposition) extensie voor ons huidig Paryleen-depositietoestel, zal ons in staat stellen een hoogkwalitatieve TiO2/Al2O3/TiO2 ALD stack met Paryleen te combineren, om zo een ultradunne, biocompatibele en flexibele bi-directionele diffusiebarrière van superieure kwaliteit te maken. Door grondige procesoptimisatie, en door de in-situ depositie inclusief plasma-behandeling voor optimale materiaal-adhesie, zal de kwaliteit van de multistack sterk toenemen. De resulterende diffusiebarrière zal daarom een zeer betrouwbare, lange termijn bescherming realiseren van elektronische microsystemen voor oa. medische toepassingen (implantaten, slimme contactlenzen). Daarenboven kunnen de nieuw ontwikkelde ALD materialen ook gebruikt worden voor nieuwe optische toepassingen. Met de sterk groeiende interesse voor elektronische implantaten en lenzen, zal met het aangevraagde toestel een groot potentieel van bilaterale projecten en nieuwe valorisatie-gedreven onderzoeksopportuniteiten voor ons openliggen.