High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) is een depositietechniek voor dunne lagen. Deze techniek is gebaseerd om het meer traditionele magnetron sputteren, een depositietechniek steunend op een magnetisch geassisteerde glimontlading. Door het aanleggen van een hoge vermogenspuls wordt de ionisatiegraad en de ladingsdichtheid van het plasma sterk opgedreven. Daarenboven ontstaat een plasma met een hoge dichtheid aan geladen metaalionen. Door het substraat negatief te polariseren t.o.v. het plasma kunnen de metaalionen tot het substraat geleid worden om zo de groei van de dunne laag te beïnvloeden.