Type
Apparatuur
Acronym
RIE
Code
APP/00286
Date of commissioning
01-01-2000 → …
Research disciplines
-
Engineering and technology
- Semiconductor devices, nanoelectronics and technology
Keywords
plasma etching
reactive ion etching
dry etching
anisotropic etching
microfabrication
thin film patterning
Brand Name/manufacturer
Plasma Therm Batchtop VII
Other information
Description
Het Benchtop System VII is een reactieve ionenetsmachine (RIE) voor droog etsen van dunne lagen bij kamertemperatuur. Geschikt voor materialen zoals siliciumdioxide, siliciumnitride en siliciumoxynitride. Organische lagen zoals polyimiden kunnen ook worden opgeruwd, verdund of geëtst.